ac米兰官方网站
ac米兰官方网站

什麽是黑盤效應

2022-07-14

image.png
https://www.fotric222.com/

什麽(me) 是焊接黑盤效應 

在封裝工藝中普遍使用銅作為(wei) 焊盤材料。為(wei) 了避免銅被氧化並提高銅焊盤的可焊性,往往會(hui) 采用各種表麵處理方法在銅焊盤上塗覆金屬層。常見的表麵處理工藝包括OSP, 化學鍍鎳金等。而化學鍍鎳金通過在銅焊盤上進行化學鍍鎳,然後將鍍鎳後的焊盤浸入金水中通過置換反應實現鍍金。金層能夠保護鎳層免受氧化。

 

化學鍍鎳金工藝存在黑盤的風險。形成原因是因為(wei) 鎳原子半徑小於(yu) 金原子半徑,導致沉金後表麵晶粒粗糙。鍍金液會(hui) 滲透到鎳層發生界麵反應並腐蝕鎳層。腐蝕後的鎳原子會(hui) 持續氧化,生成可焊性差的氧化鎳。由於(yu) 氧化鎳顏色發黑發暗,因此稱作黑盤。此外,當金層形成時鍍金液中的金離子會(hui) 吸收鎳層電子,並使鎳離子釋放出來(圖1)。由於(yu) 鎳層會(hui) 含有一定比例的磷(7-10%),隨著鎳離子的釋放,鎳層表麵會(hui) 形成富磷層。富磷層與(yu) 銅焊盤的連接性很差,在焊接後容易受外力影響導致焊點失效。

化學鍍鎳金原理 

1: 置換反應生成金層的原理

 

化學鍍鎳金工藝所生成的金層厚度很薄,通常隻有0.05-0.1μm。如果浸金過程時沒有準確控製時間和溫度,會(hui) 造成金層厚度不均勻而導致焊盤被腐蝕。如果金層過厚,黑盤發生的可能性就會(hui) 加大。而金層過薄,則鎳層更容易受到鍍金液的腐蝕。如圖2所示,鎳層出現的黑色裂紋表明鎳層受到了嚴(yan) 重的腐蝕。最外圍的金鍍層不會(hui) 發生明顯顏色變化,所以難以從(cong) 外觀上進行判定是否出現黑盤。加熱焊接時金層會(hui) 迅速溶解到焊料中,而暴露的氧化鎳不能與(yu) 錫形成金屬間化合物。黑盤會(hui) 使焊盤可焊性變差,脆性加強和抗疲勞能力減弱,從(cong) 而導致元器件失效。

 

黑盤效益 

2: 鍍鎳層SEM圖

 

雖然難以通過外表發現是否出現黑盤,但可以針對鍍液浴進行常規維護,並且控製溫度確保鍍層正常。還可以實施監控鍍液的PH值,確保腐蝕性在可接受範圍。

深圳市福英達對高可靠性無鉛錫膏生產(chan) 有著相當成熟的經驗和技術。福英達無鉛錫膏囊括低溫係列和中高溫係列。SnBiAg係列無鉛錫膏能用於(yu) 低溫焊接環境,減少熱應力帶來的焊盤翹曲等問題。SnAg3Cu0.5係列中溫錫膏熔點217℃左右,焊點推拉力和導電性優(you) 秀。對於(yu) 高溫環境如功率器件等設備封裝,福英達金錫錫膏能發揮出其高熔點(280℃)的特點。

返回列表

熱門文章:

錫鉍錫膏焊點出現金屬間化合物的機理

適當的IMC生長能給焊點提供更好的強度。錫鉍焊料合金與(yu) 銅基板焊接時會(hui) 發生界麵反應並形成IMC Cu6Sn5和Cu3Sn。在長時間的熱老化時,IMC會(hui) 逐漸增加,而過度生長的IMC會(hui) 影響焊接點的強度並導致失效。

2022-07-13

共晶及共晶錫膏介紹

共晶可以理解一種特定比例混合物的熔點/固化溫度低於(yu) 其單獨成分或其他比例混合物。共晶相圖是用來幫助了解不同合金比例和熔點溫度關(guan) 係的工具。

2022-07-11

無鉛焊料金屬間化合物形成機理和影響

IMC的生成可以分為(wei) 四個(ge) 階段,包括溶解,擴散,凝固和反應過程。在回流過程中焊料的原子擴散到基板表麵並通過界麵反應形成IMC。在降溫後IMC在焊料中積累。擴散過程可以用Fick第一定律表示。

2022-07-08

點膠工藝用途和要求

電子產(chan) 品芯片的微型化正變得越來越受歡迎。但是微型化帶來了焊點可靠性問題。元件和基板使用錫膏進行焊接,但是由於(yu) 體(ti) 積太小使得焊點更容易受到應力影響而出現脫落問題。因此引入了底部填充工藝。

2022-07-06

通過表麵處理實現高可靠性無鉛焊點

隨著半導體(ti) 技術的不斷更新發展,電子封裝的小型化、高速化、高可靠性要求的提高,對電子封裝過程中的精細化工藝提出了更高的要求,從(cong) 而使達到封裝的要求。這裏我們(men) 說到的電子封裝基材表麵處理是說對不同焊接基板進行物理或化學處理的方法,從(cong) 而達到焊接焊點的可靠性。通過表麵處理實現高可靠性無鉛焊點

2022-05-13