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集成電路超微無鉛錫膏焊料深圳福英達分享:集成電路未來三個主要發展趨勢

2022-03-02

錫膏_焊錫膏_超微焊料_助焊膏生產(chan) 商-深圳福英達是一家集錫膏、錫膠及合金焊粉產(chan) 、銷、研與(yu) 服務於(yu) 一體(ti) 的綜合型錫膏供應商, 是工信部焊錫粉標準製定主導單位,產(chan) 品涵蓋超微無鉛印刷錫膏,超微無鉛點膠錫膏,超微無鉛噴印錫膏,超微無鉛針轉移錫膏,超微無鉛免洗焊錫膏,超微無鉛水洗錫膏,高溫焊錫膏,中高溫焊錫膏,低溫焊錫膏,6號粉錫膏、7號粉錫膏、8號錫膏、9號粉錫膏、10號粉焊料,低溫超微錫膠,中高溫錫膠,各向異性導電膠,金錫錫膏,金錫錫粉,多次回流錫膏,激光錫膏,微間距助焊膠,高溫無鉛錫膏,低溫錫鉍銀錫膏,低溫高可靠性錫膏,無鉛焊膏錫鉍銀錫膏/膠,SAC305錫膏,低溫高可靠性錫膏&錫膠,無銀&錫銅錫膏,超微焊粉,Low alpha無鉛焊料,Low alpha高鉛焊料,SMT粉,定製焊料。擁有從(cong) 合金焊粉到應用產(chan) 品的完整產(chan) 品線,可製造T2-T10全尺寸超微合金焊粉的電子級封裝材料。





導 讀



盡管所有以指數定律增長的曲線在物理意義(yi) 上都是不可持續的,但摩爾定律也是如此。

然而,人們(men) 一直在努力延續摩爾定律。為(wei) 什麽(me) 他們(men) 知道自己做不到?這實際上代表了人類的理想主義(yi) 。這種理想或信念往往使人類超越自己,創造意想不到的技術和文明。

也許正是人們(men) 相信摩爾定律的可持續性,這促進了50多年來集成電路的快速發展。當摩爾定律首次提出時,我認為(wei) 摩爾本人不相信它能集成不到芝麻粒大小的1億(yi) 多個(ge) 晶體(ti) 管。

今天,在指甲蓋大小的芯片上,集成晶體(ti) 管的數量超過100億(yi) ,還能再多嗎?答案仍然是肯定的。

然而,隨著芯片特性尺寸的極端(3nm~1nm),集成電路中晶體(ti) 管尺寸的微縮逐漸接近矽原子的物理極限。1nm的寬度隻能容納兩(liang) 個(ge) 矽原子晶格(a=0.5nm),即三個(ge) 矽原子的並排寬度為(wei) 1nm

下一步,集成電路技術將走向何方?您可能會(hui) 在本文中找到自己的答案。



號粉錫膏、



01

 更多的晶體(ti) 管 


現代科技的發展是以集成電路為(wei) 基石。集成電路發展的最直接的目標就是在單位麵積內(nei) 或者單位體(ti) 積內(nei) 集成更多的晶體(ti) 管。因此,集成電路的第一個(ge) 發展方向就是集成更多的晶體(ti) 管。


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單位麵積內(nei) 更多的晶體(ti) 管     

在單位麵積內集成更多的晶體管就需要將晶體管做的更小,幾十年來,在摩爾定律的推動下,晶體管的特征尺寸從毫米級到微米級再到納米級,尺寸縮小了百萬倍。今天,在一平方毫米內可集成超過上億的晶體管,芯片上的晶體管數量已經達到百億量級。

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在單位麵積內(nei) 集成更多的晶體(ti) 管

那麽,晶體管能小到什麽程度呢?大致受兩個因素的製約,一個是晶體管內最小的結構寬度,另一個是晶體管自身所占的麵積。
晶體管的最小的結構寬度在22nm之前,通常是柵極寬度,被稱為特征尺寸。隨著晶體管麵積的日益縮小,特征尺寸和廠家的命名逐漸脫節,而柵極寬度也不再是晶體管的最小結構寬度,例如在FinFET中,Fin的寬度通常是小於柵極寬度的,在GAA堆疊納米片晶體管中,納米片的厚度也是要小於柵極寬度的。
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因此,各大Foundry不再以柵極寬度作為(wei) 晶體(ti) 管的特征尺寸,其工藝節點成為(wei) 一個(ge) 代名詞,並不和某個(ge) 特定的寬度相對應,但依然是有其物理意義(yi) 的。主要體(ti) 現在晶體(ti) 管麵積的縮小,在同樣的麵積內(nei) 可集成更多的晶體(ti) 管。

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例如,蘋果A13芯片采用7nm工藝製程,內(nei) 有85億(yi) 個(ge) 晶體(ti) 管,其麵積為(wei) 94.48平方毫米,在1平方毫米可集成8997萬(wan) 個(ge) 晶體(ti) 管:0.8997億(yi) /mm^2。蘋果A14芯片采用5nm工藝製程,內(nei) 有118億(yi) 個(ge) 晶體(ti) 管,其麵積為(wei) 88平方毫米,在1平方毫米可集成1.34億(yi) 個(ge) 晶體(ti) 管:1.34億(yi) /mm^2

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兩(liang) 者的晶體(ti) 管平均麵積之比為(wei) 1.49,如果嚴(yan) 格按照7:5的比值為(wei) 1.4,其平方為(wei) 1.96,可以看出,相對於(yu) 7納米芯片,5納米芯片做到了理論值的76%。這也是intel一直認為(wei) 別的Foundry廠家的命名有水分的原因。

從(cong) 平麵晶體(ti) 管到FinFET到GAA,晶體(ti) 管的尺寸不斷縮小,結構不斷優(you) 化,就是為(wei) 了在單位麵積內(nei) 集成更多的晶體(ti) 管。


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單位體(ti) 積內(nei) 更多的晶體(ti) 管     

而在單位體積內集成更多的晶體管,除了可以將晶體管做的更小之外,還因為多了一個空間維度,因此可以將晶體管堆疊起來。

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在單位體(ti) 積內(nei) 集成更多的晶體(ti) 管


如何進行晶體管的堆疊呢?
大致兩種方法,第一種就是在晶圓上通過特殊工藝將晶體管直接做成多層的;另外一種就是和傳統工藝相同的方法在晶圓上製作一層晶體管,然後將多個晶圓堆疊起來,晶圓之間通過TSV連接。
關於第一種方法,目前有很多研究,例如將NMOS堆疊在PMOS上,從而節省一半的麵積,使晶體管密度提升一倍。其難點在於上層的晶體管沒有致密的矽基底作為支撐,很難製作出高質量的晶體管,另外,目前的技術也隻能支持兩層堆疊。

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第二種方法目前應用如火如荼,通常被稱之為先進封裝技術(Advanced Packaging)。
先進封裝也稱為HDAP高密度先進封裝,目前受關注度很高,技術發展迅速,晶圓間互連的TSV密度越來越高,並且理論上不受堆疊層數的限製,最先進的技術目前掌握在Foundry手中。

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不過,現在Foundry廠逐漸不把其作為封裝技術來看待,而將其視為晶圓製造的一個重要環節,例如TSMC,在其產品線種將其定義為3D Fabric。
理論上講,XYZ三個維度並沒有本質不同,因此,增加一個維度,其集成的晶體管數量可能會成千上萬倍地增加,這也被很多人認為摩爾定律可持續的重要原因。
在集成電路中,晶體管作為最小的功能單位,我們可以稱之為功能細胞。在單位體積內集成更多的功能細胞,即提升係統的功能密度。
從曆史來看,在所有的人造係統中,功能密度都在不斷地提升,雖然不同的曆史階段提升的有快有慢,但在人類文明發展的進程中不會停滯。


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錫銀銅SAC錫膏   錫銀銅 SACS錫膏     錫鉍銀SnBiAg錫膏     錫鉍銀銻SnBiAgSb錫膏  錫鉍銀SnBiAgX錫膏  錫鉍SnBi錫膏     BiX 錫膏  金錫AuSn錫膏     錫銻SnSb錫膏     含鉛 SnPb錫膏      各向異性導電錫膠    微間距助焊膠

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02

 擴展矽元素 


雖然化合物半導體(ti) 近來比較熱門,但集成電路中,矽目前還是占據著絕對的主流位置。因此,芯片製造商一直試圖將化合物半導體(ti) 應用在傳(chuan) 統的矽晶圓上,從(cong) 而有效利用現有資源並創造出更大的經濟效益。


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矽基氮化镓技術     

通過在300毫米的矽晶圓上集成氮化镓基(GaN-based)功率器件與矽基CMOS,實現了更高效的電源技術。這為CPU提供低損耗、高速電能傳輸創造了條件,同時也減少了主板組件和空間。
氮化镓半導體器件主要可分為GaN-on-Si(矽基氮化镓)、GaN-on-SiC(碳化矽基氮化镓),GaN-on-sapphire(藍寶石基氮化镓)等幾種晶圓。
由於成本和技術等因素,矽基氮化镓成為了目前半導體市場主流。
英特爾在300毫米的矽晶圓上首次集成氮化镓基(GaN-based)功率器件,此研究驗證了300毫米工藝兼容可行性,更適配高電壓應用,增加了功能,提升了大規模製造可能性。

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全世界現在大概有上萬億美元的投資都是在300毫米矽晶圓設備、生態係統上,需要把這些充分利用起來,這樣製造成本才能下降。
此外,台積電目前采用的也是GaN-on-Si(矽基氮化镓)技術。


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新型鐵電體(ti) 材料     

另一項技術是利用新型鐵電體材料作為下一代嵌入式DRAM技術的可行方案。該項技術可提供更大內存資源和低時延讀寫能力,用於解決從人工智能到高性能計算等應用所麵臨的日益複雜的問題。
新型鐵電存儲器,采用新的技術實現了2納秒的讀寫速度和超過10的12次方的讀寫周期,其性能和壽命都遠超現有的存儲器。

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鐵電存儲器可以和傳統的CMOS工藝結合,用來作為從L1 Cache到DRMA之間的中間層。

擴展矽元素,在功率器件和內存增益領域提升矽基半導體的性能,目前已經取得了不錯的進展。人們還在不斷地努力探尋其它的方法來擴展矽元素。

03

探尋量子領域 


由於量子力學隧道效應,電子可以穿越絕緣體,這將使元件功能失效。人們開始尋找一種新型晶體管,可以進一步提高未來集成電路的性能,作為傳統晶體管的替代品。目前有很多研究,但還沒有領先者可以取代矽MOSFET。
研究人員列出了一係列MOSFET替代品,包括隧道場效應晶體管TFET,碳納米管場效應晶體管,單原子晶體管。

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隧道場效應晶體(ti) 管     

隧道場效應晶體(ti) 管(TFET-Tunnel Field Effect Transistor),和傳(chuan) 統MOSFET晶體(ti) 管原理不同,在TFET中源極和漏極摻雜不同。它使用量子力學隧道效應,柵極和源極之間的電壓決(jue) 定了電荷載流子是否可以“隧穿”通過源極和漏極之間的能量勢壘,以及電流是否可能流動。

根據量子理論,有些電子縱使明顯缺乏足夠的能量來穿過能量勢壘,它們(men) 也能做到這一點,這就是量子隧道效應。

在隧道場效應晶體(ti) 管中,兩(liang) 個(ge) 小槽被一個(ge) 能量勢壘分開。在第一個(ge) 小槽中,一大群電子在靜靜等待著,晶體(ti) 管沒有被激活,當施加電壓時,電子就會(hui) 通過能量勢壘並且移入第二個(ge) 小槽內(nei) ,同時激活晶體(ti) 管。TFET在結構上類似於(yu) 傳(chuan) 統晶體(ti) 管,但在開關(guan) 方麵利用了量子力學隧道效應,既節能又快捷。

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通過減少能量勢壘的幅度,增強並利用量子效應將成為(wei) 可能,因此,電子穿過勢壘所需要的能量會(hui) 大大減少,晶體(ti) 管的能耗也會(hui) 因此而顯著下降。
利用量子隧道效應研製出的隧道場效應晶體(ti) 管有望將芯片的能耗減少到百分之一(1/100)。


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碳納米管場效應晶體(ti) 管     

碳納米管場效應晶體管(CNFET-Carbon Nanotube Field Effect Transistor

在CNFET中,源極和漏極之間的溝道由碳納米管組成,其直徑僅(jin) 有1–3 nm, 意味著其作為(wei) 晶體(ti) 管的溝道更容易被柵控製。因此, 碳納米管晶體(ti) 管比傳(chuan) 統矽基晶體(ti) 管在比例縮減上的潛力會(hui) 更大。

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碳納米管具有超高的室溫載流子遷移率和飽和速度,室溫下,碳納米管中載流子遷移率大約為(wei) 矽的100倍, 飽和速度大約是矽的4倍。在相同溝道長度下, 載流子遷移率越高,飽和速度越高,速度越快,並能增加能量的利用效率。

碳納米管晶體(ti) 管具備超低電壓驅動的潛力,從(cong) 而在低功耗方麵具有巨大優(you) 勢,在溝道材料的選擇中, 碳納米管溝道同時具備了天然小尺寸、更好的尺寸縮減潛力和低功耗等關(guan) 鍵因素。


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單原子晶體(ti) 管     

單原子晶體(ti) 管(Single-Atom Transistor),在這種晶體(ti) 管中,控製電極移動一個(ge) 原子,該原子可以連接兩(liang) 端之間的微小間隙,從(cong) 而使電流能夠流動。原則上,它的工作原理就像一個(ge) 有兩(liang) 個(ge) 穩定狀態的繼電器。

在單原子晶體(ti) 管中,通過源極和柵極之間的電壓移動單個(ge) 原子,從(cong) 而關(guan) 閉或打開源極和漏極之間的電路。

在隻有單一金屬原子寬度的縫隙間建立微小的金屬觸點,實現目前晶體管所能達到的最小極限。在此縫隙通過電控脈衝移動單個原子,完成電路閉合,將該原子移出縫隙,電路被切斷。

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由此實現世界上最小晶體管在接通電源情況下單個原子的受控可逆運動。
單原子晶體管由金屬構成,不含半導體材料,所需電壓極低,能耗也極低。據稱,單原子晶體管的能耗將隻有傳統矽基晶體管的萬分之一(1/10000)
與傳統量子電子元件不同,單原子晶體管不需要在接近絕對零度的低溫條件工作,它可以在室溫下工作,這對未來應用是一個決定性的優勢。

來源:SiP與(yu) 先進封裝技術,深圳福英達整理

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